제품소개

Plasma Wet Scrubber CREO-04

반도체와 OLED,LED 제조공정에서 사용되는 유해한 공정GAS를 고온 DC Thermal Plasma Flame 이용하여 완벽하게 분해시키고 처리하는 장비입니다. (주)에프엠에스시스템스의 CREO-04 Plasma Scrubber는 Si반도체, SiC반도체,OLED제조공정에서 사용되는 폭발성,·부식성·독성가스 뿐만 아니라,지구 온실 가스인 PFCs(CF4,NF3,WF6등)계 GAS를 완전 분해 처리가능 합니다.

Plasma Wet Scrubber CREO-06S

반도체와 OLED,LED , Solar Cell제조공정용 대용량 Plasma Wet Scrubber로 공정GAS를 고온 DC Thermal Plasma Flame 이용하여 완벽하게 분해시키고 처리하는 장비입니다. (주)에프엠에스시스템스 의 CREO-S06 Plasma Scrubber는 Si반도체, SiC반도체,OLED 그리고 Solar Cell 제조공정에서 사용되는 폭발성,·부식성·독성가스 뿐만 dk니라,지구 온실 가스인 PFCs(CF4,NF3,WF6등)계 GAS를 완전 분해 처리가능 합니다.

Pressure Cure Oven

가압오븐 (Pressure Cure Oven)은 반도체 Package 공정 중 Die Attach후 발생 잔존하는 micro size性 Void를 적정한 높은 압력과 온도로 Cure하여 void에 의한 잠재적 불량을 제거하는 신뢰성 장비